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平面平晶的測量方法

日期:2024-11-08 22:46
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摘要:
      平面平晶是用于以干涉法測量塊規(guī),以及檢驗(yàn)塊規(guī)、 量規(guī)、零件密封面、測量儀器及測量工具量面的研合性和平面度的常用工具。具有兩個(gè)(或一個(gè))光學(xué)測量平面的正圓柱形或長方形的量規(guī)。光學(xué)測量平面是表面粗糙度數(shù)值和平面度誤差都極小的玻璃平面,它能夠產(chǎn)生光波干涉條紋(見激光測長技術(shù))。平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用于測量高光潔表面的平面度誤差,為用平面平晶檢驗(yàn)量塊測量面的平面度誤差。平行平晶的兩個(gè)光學(xué)測量平面是相互平行的,用于測量兩高光潔表面的平行度誤差,例如千分尺兩測量面的平行度誤差.平晶用光學(xué)玻璃或石英玻璃制造。圓柱形平面平晶的直徑通常為 45~150毫米。其光學(xué)測量平面的平面度誤差為:1級精度的為0.03~0.05微米;2級精度的為0.1微米。常見的長方形平面平晶的有效長度一般為200毫米。
      平晶是利用光波干涉現(xiàn)象測量平面度誤差的,故其測量方法稱為平晶干涉法(圖2),也稱技術(shù)光波干涉法。測量時(shí),把平晶放在被測表面上,且與被測表面形成一個(gè)很小的楔角 θ,以單色光源照射時(shí)會(huì)產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關(guān)。如入射光線垂直于被測表面,且平晶與被測表面間的間隙很小,則由平晶測量面P反射的光線與被測表面反射的光線在測量面 P發(fā)生干涉而出現(xiàn)明或暗的干涉條紋。若在白光下,則出現(xiàn)彩色干涉條紋。如干涉條紋平直,相互平行,且分布均勻,則表示被測表面的平面度很好;如干涉條紋彎曲,則表示平面度不好。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)λ為光波波長,白光的平均波長為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量,ω為干涉帶間距。
 
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